智家核心 最懂你心
首页 视频 家装 潮向 攻略 评测 晒物 爆料 新品 手机 科技 家居 快乐优选
新创5纳米IC技术更快更省电
只在乎你 2014-11-21 来源: 一点资讯
0
分享
13859

OFweek电子工程网讯 目前全球最先进的积体电路(IC)量产技术为14纳米,不过国家实验研究院已着手研究5纳米的IC,并透过材料和结构上的创新,成功研发出比现行更省电、运算速度更快的IC,且获选国际电子元件会议的焦点论文,最快5年后有机会正式导入产业界量产。

国研院纳米元件实验室今天发表,两项获得全球顶尖电子元件国际会议焦点论文的新技术,包含“纳米级菱形锗高速通道技术”及“原子级二硫化钼二维通道技术”。

研究员陈旻政表示,产业界不断追求电晶体微小化,其目的在于缩短电流传输的时间,以达到快速运算且节能的功效。而实验室历经半年以上的时间,成功透过纳米级蚀刻技术,在数10纳米大的锗通道内,雕出“菱形”结构,将电流通道拓展为4个面向,可使传输速度比现行的高出1倍。

此外纳米元件实验室也创世界之先,将厚度仅4纳米的二维二硫化钼与现今主流的鳍式电体结构整合,并搭配“双闸极”设计,减少漏电情形,用电量可比现行的IC节省一半。

陈旻政说,目前IC大厂已有技术将IC从14纳米逐渐缩减为5纳米,而这两项技术若要被采行、量产,最快可能要等到5年后,不过这两项技术为10至15年后的元件电路设计开创出新方案,因此备受科学界瞩目。

这些是您想要的吗
最新评论
相关推荐